ULSI硅衬底化学机械研磨技术研究

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：lmx1983

【摘要】

：

通过对传统硅片研磨加工工艺过程中的问题进行深入研究和分析,总结了影响硅片表面质量的主要影响因素,提出了将化学机械平整化技术应用到ULSI硅衬底研磨加工的新方法,在研磨

【作者】

：

周建伟刘玉岭张伟

【机构】

：

河北工业大学微电子研究所

【出处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

2007年z1期

【关键词】

：

硅片 CMP 表面活性剂研磨速率粗糙度

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

通过对传统硅片研磨加工工艺过程中的问题进行深入研究和分析,总结了影响硅片表面质量的主要影响因素,提出了将化学机械平整化技术应用到ULSI硅衬底研磨加工的新方法,在研磨加工过程中减少强烈的、单一的机械作用,增加化学作用.通过实验研究得出了研磨速率提高20%,表面粗糙度降低,有效地降低了硅片表面损伤.

其他文献

自动定时机构自动测试系统设计与实现

针对某航空电机厂需求,研制了12种不同型号DS(自动定时机构)产品的通用自动测试系统;采用PCI,GPIB和RS-232等多种总线仪器设计具有标准化、模块化结构的硬件平台,以VISA,DLL,ActiveX,COM等技术设计层次化、开放式的软件底层结构,在VC++开发环境下开发方便集成、可操作性好的应用程序;能对DS产品全部3个指标(时序、电流和绝缘阻抗)进行测试,得到成功应用;自动测试技术提高了

期刊

自动定时机构自动测试系统软硬件设计auto-time product auto-test system design principle

陈荆和编校《大越史记全书(校合本)》校点误例辨证

陈荆和编校的《大越史记全书》(校合本)之点校整体上颇为精确,但点校时由于缺少善本作为底本的客观条件的限制,在一定程度上影响了点校的质量。另外,在校点中由于卷帙浩繁,对

期刊

越南《大越史记全书》陈荆和古籍校勘VietnamDAI VIET SU KY TOAN THUCHEN JingheCollation of Ancie

铋基纳米材料在癌症成像诊断与治疗中的应用

随着纳米医学的快速发展,纳米诊疗材料因其兼具诊断和治疗等多功能性而受到越来越多的关注。铋(Bi)基纳米材料具有优异的光学、电学和磁学性质,在肿瘤的诊疗一体化领域具有广

期刊

铋纳米技术癌症诊断治疗bismuthnanotechnologycancerdiagnosistherapy

高校计算机网络技术实验室的建设及实现

主要阐述了网络实验室在教学中的重要性,提出了网络技术实验室建设目标的层次以及所应遵循的原则,在此基础上分析了网络技术实验室建设的基本模式以及所实现的技术方案等。

期刊

网络技术实验室实现模式高校networking laboratory realizes pattern university

ULSI硅衬底化学机械研磨技术研究

其他学术论文