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期刊论文
GaAs/Si衬底电路制备中Ge元素分布的研究
GaAs/Si衬底电路制备中Ge元素分布的研究
来源 :真空电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ivwyniqtd
【摘 要】
:
Si衬底上外廷GaAs材料是微电子学研究的重要课题之一,本文介绍了以大直径的GaAs/Si材料取代GaAs衬底的工艺技术,对Ge元素在GaAs/Si集成电路中的分布影响进行了俄歇电子能谱分析研究,并确定了该技术在大规模
【作 者】
:
邵力为
李明祥
【机 构】
:
东南大学
【出 处】
:
真空电子技术
【发表日期】
:
1994年3期
【关键词】
:
砷化镓
锗
硅
元素分布
集成电路
Auger
Material analysis
Integrated circuit
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Si衬底上外廷GaAs材料是微电子学研究的重要课题之一,本文介绍了以大直径的GaAs/Si材料取代GaAs衬底的工艺技术,对Ge元素在GaAs/Si集成电路中的分布影响进行了俄歇电子能谱分析研究,并确定了该技术在大规模集成电路中的应用价值。
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