【摘 要】
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采用磁控溅射技术在玻璃基片上制备了非晶态的TiO2-Ag薄膜,用XRD、XPS、STS和椭圆偏光测厚仪等对薄膜的晶体结构、表面成分、电子结构和薄膜厚度进行了测试分析。试验和测试
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采用磁控溅射技术在玻璃基片上制备了非晶态的TiO2-Ag薄膜,用XRD、XPS、STS和椭圆偏光测厚仪等对薄膜的晶体结构、表面成分、电子结构和薄膜厚度进行了测试分析。试验和测试结果表明,薄膜呈非晶态,在薄膜表面存在单质Ag,其与Ti的原子浓度比为1.8∶1。STS测试得到薄膜的禁带宽度为1.8eV。对10mg/L的亚甲基蓝溶液光催化脱色实验表明,随着薄膜厚度的增加,光催化脱色率递增,当厚度达360nm时,薄膜对亚甲基蓝的脱色率在2h达90%以上,当厚度〉360nm时,光催化脱色率不再增加;对2mg/L罗丹
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