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期刊论文
CVD金刚石膜中的缺陷
CVD金刚石膜中的缺陷
来源 :北京科技大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:guihuxinxi
【摘 要】
:
研究了利用直流电弧等离子体喷射(DC Arc Plasma Jet)制备的大面积金刚石膜中的缺陷问题.研究表明:金刚石膜中的缺陷包括表面缺陷、晶内缺陷和晶界缺陷,以及由于内应力产生的
【作 者】
:
张恒大
刘敬明
宋建华
吕反修
唐伟忠
【机 构】
:
北京科技大学材料科学与工程学院
【出 处】
:
北京科技大学学报
【发表日期】
:
2002年4期
【关键词】
:
CVD
金刚石膜
表面缺陷
成因分析
等离子体喷射
晶内缺陷
晶界缺陷
化学气相沉积
diamond films
defects
formation mec
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研究了利用直流电弧等离子体喷射(DC Arc Plasma Jet)制备的大面积金刚石膜中的缺陷问题.研究表明:金刚石膜中的缺陷包括表面缺陷、晶内缺陷和晶界缺陷,以及由于内应力产生的金刚石膜宏观和微观裂纹.金刚石膜中的缺陷与制备工艺参数有着密切关系.
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