【摘 要】
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采用射频（RF）磁控溅射法在玻璃衬底上制备了c轴择优取向的ZnO薄膜。对所制备的ZnO薄膜在空气气氛中进行不同温度（350-600℃）的退火处理。利用XRD研究退火对ZnO薄膜晶体性能和应力
【基金项目】
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合肥工业大学创新群体基金资助项目（103-037016）
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采用射频（RF）磁控溅射法在玻璃衬底上制备了c轴择优取向的ZnO薄膜。对所制备的ZnO薄膜在空气气氛中进行不同温度（350-600℃）的退火处理。利用XRD研究退火对ZnO薄膜晶体性能和应力状态的影响；用扫描电子显微镜（SEM）观察薄膜的表面形貌；用分光光谱仪测试薄膜的透光率。研究表明，随退火温度的升高，ZnO薄膜（002）衍射峰强度不断增强，半高宽逐渐减小；ZnO薄膜中沿c轴方向存在着的张应力在500℃退火时得到松弛；退火处理后薄膜的平均透光率变化不大，但透射光谱出现了“红移”现象。
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