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介绍了利用反应溅射法制备Ti1-xAlxN薄膜的工艺过程,测量并分析了Ti1-xAlxN薄膜的光学性能及电阻率与薄膜成分的关系.结果表明,Ti1-xAlxN薄膜的折射率和消光系数均随薄膜中Al含量x的增加而减小,电阻率则随x的增加而增大.并从薄膜的基本结构变化过程对实验结果作出解释.
Ti1-xAlxN薄膜的制备及性能研究
【摘 要】
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介绍了利用反应溅射法制备Ti1-xAlxN薄膜的工艺过程,测量并分析了Ti1-xAlxN薄膜的光学性能及电阻率与薄膜成分的关系.结果表明,Ti1-xAlxN薄膜的折射率和消光系数均随薄膜中Al
【机 构】
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华中理工大学固体电子学系
【出 处】
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真空科学与技术学报
【发表日期】
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2004年期
【基金项目】
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高等学校博士学科点专项科研项目;
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