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采用浸涂法,以载玻片为基底,十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）为模板剂,正硅酸乙酯（TEOS）为硅源,丙三醇为成膜干燥控制剂,制备出有序的介孔SiO2薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）、红外光谱（IR）、扫描电子显微镜（SEM）和透射电子显微镜（TEM）对其结构进行表征。XRD测试结果表明,合成的薄膜具有MCM-41介孔结构特征,孔径约为3.5 nm。TEM结果表明,制备的介孔薄膜具有有序六方结构。