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介绍PVD的原理,描述PVD设备的结构原理和性能参数,通过实验研究了PVD镀Al膜的工艺,分析了磁控溅射中溅射时间、溅射功率、靶基距、溅射温度和靶材对最终Al膜质量的影响,为实际应用中参数设置和工艺改进提供了参考。
PVD镀Al膜工艺研究
【摘 要】
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介绍PVD的原理,描述PVD设备的结构原理和性能参数,通过实验研究了PVD镀Al膜的工艺,分析了磁控溅射中溅射时间、溅射功率、靶基距、溅射温度和靶材对最终Al膜质量的影响,为实
【机 构】
：
株洲中车时代电气股份有限公司
【出 处】
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设备管理与维修
【发表日期】
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2020年1期
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