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采用磁控溅射物理气相沉积和等离子体增强化学气相沉积技术，在金属镍基体上制备具有纳米晶结构的碳化钨薄膜；采用循环伏安、准稳态极化和恒电位阶跃等电化学方法研究了对硝基苯酚（PNP）在碳化钨纳米晶薄膜电极上电化学还原的特性和机理。研究表明，采用磁控溅射物理气相沉积技术制备得到的薄膜是由直径为20nm的WC1-X构成，在这种薄膜电极上，PNP电化学还原在电位为-0．95V（Vs．SCE）时，出现一个电流密度为6．0mA·cm^-2还原峰，还原反应的表观活化能为12．0kJ·mol^-1；而采用