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在真空中、氮气中、大气中和氧气中分别测量了生长的硅片上的8—羟基喹啉铝(Alq3)薄膜光致发光(PL)谱及其在不同激光功率密度下的PL强度衰减谱.发现氧气和较强激光幅照共同作用会导致Alq3薄膜表面PL的衰减与淬灭.
不同气氛下激光幅射对硅基Alq<sub>3</sub>薄膜光致发光特性的影响
【摘 要】
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在真空中、氮气中、大气中和氧气中分别测量了生长的硅片上的8—羟基喹啉铝(Alq3)薄膜光致发光(PL)谱及其在不同激光功率密度下的PL强度衰减谱.发现氧气和较强激光幅照共同作
【机 构】
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井冈山师范学院物理系,复旦大学应用表面物理国家重点实验室江西吉安343009,上海200433
【出 处】
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井冈山大学学报：社会科学版
【发表日期】
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2002年6期
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(69776034)
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