【摘 要】
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通过微电子机械技术（MEMS）在抛光的熔融石英基材表面制作了平面精度达到0.4μm的超大单片面积的全息透镜。采用了分辨率达到0.2μm的步进投影式拼接光刻,适合石英基材的专用等
【机 构】
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清华大学深圳研究生院,中山大学中法核工程与技术学院
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通过微电子机械技术（MEMS）在抛光的熔融石英基材表面制作了平面精度达到0.4μm的超大单片面积的全息透镜。采用了分辨率达到0.2μm的步进投影式拼接光刻,适合石英基材的专用等离子耦合刻蚀（ICP）干法刻蚀技术,特殊的物理清洗方法,以及相关的多项辅助工艺。透镜理想面形横截面曲线为分段抛物线,每一片由23个柱状结构单元周期横向排列构成,采用等深度不等宽度的4台阶结构拟合,单元宽度约为2.966mm。在4in（10.16cm）圆片上,获得了单片尺寸为68mm×68mm的方形透镜。采用接触式台阶仪,扫
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