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湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响曾红军郭履容陈波庞霖（四川大学信息光学研究中心成都６１００６４）浮雕型全息光学元件（ＨＯＥ）在红外光学、自适应光学、光互联等领域有着广泛应用。全息记录材料曝光后，其潜像要经过显影等后处理（湿法刻蚀）才能获得浮雕。...
湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响
【摘 要】
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湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响曾红军郭履容陈波庞霖（四川大学信息光学研究中心成都６１００６４）浮雕型全息光学元件（ＨＯＥ）在红外光学、自适应光学、光互联等领域有着广泛应用。全息记
【机 构】
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四川大学信息光学研究中心
【出 处】
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大连理工大学学报
【发表日期】
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1997年S2期
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