LNO种子层对Bi3.15Nd0.85Ti3O12铁电薄膜性能的影响

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采用溶胶-凝胶法制备了沉积在加入了LNO种子层Pt/Ti/Si O2/Si衬底上的Bi3.15Nd0.85Ti3O12(BNT)铁电薄膜,研究了LNO种子层对BNT薄膜性能的影响.XRD结果表明。XRD结果表明具有La Ni O3缓冲层的BNT薄膜仍为随机取向,且以(117)峰为最强,电滞回线形状也较好,在电压为15 V时剩余极化值Pr为25.5μc/cm2;制得的薄膜表面致密,颗粒大小均匀,粒径在100~150 nm之间;添加了La Ni O3缓冲层之后,BNT薄膜的疲劳特性和漏电流密度得到了很大的改善。
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