【摘 要】
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目前,高数值孔径(NA)投影光刻物镜都普遍采用非球面元件来提升光学系统的成像质量并降低系统的复杂度,但是高精度非球面检测一直是光学检测领域的一大难题,也是限制高NA投影
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室超精密光学工程研究中心;
【基金项目】
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国家科技重大专项(2009ZX02205)
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目前,高数值孔径(NA)投影光刻物镜都普遍采用非球面元件来提升光学系统的成像质量并降低系统的复杂度,但是高精度非球面检测一直是光学检测领域的一大难题,也是限制高NA投影光刻物镜制造的关键因素。为了解决这一难题,针对高NA投影光刻物镜中的一偶次高次非球面,论述了计算全息图(CGH)相位与空间频率的关系,以及相位与空间频率的计算方法;采用点光源照明模式,详细分析了CGH设计时的关键参数的选择方法和避免CGH非工作衍射级次的干扰的方法;采用所选定的设计参数,加工制作了CGH,并用此CGH完成了对非球面的高精度检测。经过多轮加工检测迭代,最终非球面的收敛精度的均方根(RMS)达到了0.46nm。
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