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研究了电沉积Ni-B合金工艺中,氯化镍、硼氢化钠、乙二胺、酒石酸钾钠、稳定剂及电流密度、温度对镀层中硼含量和镀速的影响.结果表明,控制镀液成分和工艺条件,可获得含硼量为3%～4%的镀层,沉积速率在20 μm/h左右.
电沉积Ni-B合金工艺研究
【摘 要】
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研究了电沉积Ni-B合金工艺中,氯化镍、硼氢化钠、乙二胺、酒石酸钾钠、稳定剂及电流密度、温度对镀层中硼含量和镀速的影响.结果表明,控制镀液成分和工艺条件,可获得含硼量为
【机 构】
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沈阳工业学院化工分院
【出 处】
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材料保护
【发表日期】
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2003年8期
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