【摘 要】
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采用可变磁场CAE弧源PVD技术,利用Al_（70）Cr_（30）材料在HSS基体上制备了AlCrN薄膜,利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜以及多功能材料表面试验仪,研究了AlCrN薄膜的物相结构、断口
【机 构】
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成都真锐科技涂层技术有限公司,成都成量工具集团有限公司,上海华瑞超硬镀膜有限公司
【基金项目】
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“高档数控机床与基础制造装备”国家重大科技专项(2015ZX04005004)
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采用可变磁场CAE弧源PVD技术,利用Al_（70）Cr_（30）材料在HSS基体上制备了AlCrN薄膜,利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜以及多功能材料表面试验仪,研究了AlCrN薄膜的物相结构、断口和表面形貌特征。通过相关工艺参数的调整,实现了AlCrN薄膜物相结构的调控,所获得的薄膜硬度达到3700-4000HK,并具有良好的膜基结合力。AlCrN涂层立铣刀、齿轮滚刀试验表明：AlCrN涂层高速钢刀具适合于干式、湿式的切削条件,具有（111）面的择优取向的AlCrN涂层高速钢刀具具有更好的耐磨性及稳定
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