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为解决麦瓦(MEVVA)离子源束流的径向分布均匀性问题,采取了加入会切磁场的方法. 会切磁场的安放位置不同得到束流分布均匀性的程度不同. 另外,如安放一纵向磁场对分布的均匀性也有改善,但不如在合适位置安放会切磁场的效果好.
磁场对麦瓦（MEVVA）离子源电荷密度分布的影响
【摘 要】
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为解决麦瓦(MEVVA)离子源束流的径向分布均匀性问题,采取了加入会切磁场的方法. 会切磁场的安放位置不同得到束流分布均匀性的程度不同. 另外,如安放一纵向磁场对分布的均匀
【机 构】
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天津师范大学
【出 处】
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天津师范大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2003年1期
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