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平均平动能量为４．８ｅＶ的过热氟原子的脉冲束已经用来证明硅的各向异性蚀刻。在１．４Ｈｚ工作下，距离脉冲束源为３０ｃｍ的地方已测得Ｓｉ的室温蚀刻率为３００Ａ／ｍｉｎ。在单碰撞条件下，对酚醛掩模的Ｓｉ器件的室温蚀刻已达到１４％，而没有可探测出的掩模腐
过热的中性束蚀刻
【摘 要】
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平均平动能量为４．８ｅＶ的过热氟原子的脉冲束已经用来证明硅的各向异性蚀刻。在１．４Ｈｚ工作下，距离脉冲束源为３０ｃｍ的地方已测得Ｓｉ的室温蚀刻率为３００Ａ／ｍｉｎ。在单碰撞条件下，对酚醛掩模的Ｓｉ器件的室温蚀刻已达到
【出 处】
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国外核聚变与等离子体应用
【发表日期】
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1996年4期
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