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低压ZnO压敏薄膜制备与研究
低压ZnO压敏薄膜制备与研究
来源 :中国真空学会薄膜技术学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhoulei1964
【摘 要】
:
以GDARE法沉积的低压ZnO压敏薄膜为多孔性超微粒结构,沿c轴高度取向.经一定温度热处理后,薄膜具有较好的非线性V-I特性,漏电流小,压敏电压低.温度对薄膜的V-I特性影响较大.文
【作 者】
:
陆慧
滕月莉
殷海波
陆元成
潘孝仁
【机 构】
:
华东理工大学物理系(上海)
【出 处】
:
中国真空学会薄膜技术学术研讨会
【发表日期】
:
2003年9期
【关键词】
:
ZnO低压压敏薄膜
结构
非线性系数
压敏电压
直流沉积法
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以GDARE法沉积的低压ZnO压敏薄膜为多孔性超微粒结构,沿c轴高度取向.经一定温度热处理后,薄膜具有较好的非线性V-I特性,漏电流小,压敏电压低.温度对薄膜的V-I特性影响较大.文章讨论了ZnO低压压敏薄膜的导电机理.
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