沉积条件对硅基薄膜非晶转微晶相变、沉积速率及其光电性能的影响(英文)

来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:peng7330
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本文采用HWA-MWECR-CVD系统制备了微晶硅薄膜。研究了氢稀释比、反应压强以及微波功率对微晶硅薄膜非晶转微晶相变及其相关性能的影响。实验结果表明:当氢稀释比为94%、反应压强为1.5Pa以及微波功率为500W时,高质量的微晶硅薄膜可以被获得,如2.86*104的高光敏性,1nm左右的沉积速率以及8.9%的光致衰退速率等。 In this paper, a microcrystalline silicon thin film was prepared by HWA-MWECR-CVD system. The effects of hydrogen dilution ratio, reaction pressure and microwave power on the phase transformation and the related properties of microcrystalline silicon films were studied. The experimental results show that high quality microcrystalline silicon thin films can be obtained when the hydrogen dilution ratio is 94%, the reaction pressure is 1.5Pa and the microwave power is 500W, such as the high photosensitivity of 2.86 * 104, the deposition rate of about 1nm, and 8.9% photo-induced recession rate and so on.
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