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用JGP560D型双室多功能磁控溅射仪成功制备了Fe-Zr-B非晶磁性薄膜，并获得了良好的磁性能，研究了制备工艺对薄膜性能的影响。
Fe—Zr—B非晶磁性薄膜制备工艺对性能的影响
【摘 要】
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用JGP560D型双室多功能磁控溅射仪成功制备了Fe-Zr-B非晶磁性薄膜，并获得了良好的磁性能，研究了制备工艺对薄膜性能的影响。
【机 构】
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上海市金属功能材料应用与开发重点实验室,中科院上海冶金研究所
【出 处】
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上海钢研
【发表日期】
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2002年2期
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