【摘 要】
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针对高含量陶瓷相的熔覆层容易出现裂纹的问题,研究了不同工艺参数下Ni45+20%Cr3C2熔覆层的成形特性,为调节工艺参数制备出高含量陶瓷相的无裂纹熔覆层提供相应的理论指导.研究结果表明:随着激光电流的增加,稀释率、熔高及熔宽均增大,熔宽的增加值大于熔高的增加值,熔覆层的组织比较粗大,晶距较大,晶粒生长方式由细小的树枝晶向胞状树枝晶转变;在优化的工艺参数下(电流150 A,扫描速度200 mm/min,搭接率60%),熔覆层的稀率为25.3%,多道熔覆层的硬度值略低于单道熔覆层,但性能相对均匀稳定.对于高
【机 构】
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蚌埠学院机械与车辆工程学院,安徽蚌埠233000
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针对高含量陶瓷相的熔覆层容易出现裂纹的问题,研究了不同工艺参数下Ni45+20%Cr3C2熔覆层的成形特性,为调节工艺参数制备出高含量陶瓷相的无裂纹熔覆层提供相应的理论指导.研究结果表明:随着激光电流的增加,稀释率、熔高及熔宽均增大,熔宽的增加值大于熔高的增加值,熔覆层的组织比较粗大,晶距较大,晶粒生长方式由细小的树枝晶向胞状树枝晶转变;在优化的工艺参数下(电流150 A,扫描速度200 mm/min,搭接率60%),熔覆层的稀率为25.3%,多道熔覆层的硬度值略低于单道熔覆层,但性能相对均匀稳定.对于高含量陶瓷相的熔覆层,适当放宽对稀释率的控制范围,通过调节工艺参数,可以获得无裂纹、成形质量较好的熔覆层.
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