【摘 要】
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采用中频脉冲磁控溅射双靶交替沉积，制备了调制周期为4nm，12nm和88nm的VC／Ni纳米叠层薄膜以及纯VC薄膜。利用XRD和SEM对薄膜结构进行分析，并通过纳米压痕和维氏压痕对薄膜的硬度
【机 构】
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昆明理工大学材料科学与工程学院,中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室,贵州新安航空机械有限责任公司
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采用中频脉冲磁控溅射双靶交替沉积，制备了调制周期为4nm，12nm和88nm的VC／Ni纳米叠层薄膜以及纯VC薄膜。利用XRD和SEM对薄膜结构进行分析，并通过纳米压痕和维氏压痕对薄膜的硬度、模量以及韧性进行了表征。结果表明：双靶交替沉积制备的VC／Ni纳米叠层薄膜界面清晰、薄膜生长比较致密；三种周期的叠层薄膜硬度均为20GPa，与纯VC薄膜相比韧性得到了明显的改善；随着调制周期的增加，发现VC／Ni纳米叠层薄膜的硬度先增大后减小，韧性先降低，后提高，存在一个性能转折的临界周期。
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