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日本一家公司研究出一种从三氧化钼中分离钨,制取高纯钼粉的新方法以满足钼测射靶对原料纯度越来越高的要求。在一般的纯钼粉中,含有100～200ppm的钨,这种钼原料中钨的去除非常困难,虽然实验室中有一些净化方法,但未能用于工业生产。新方法容易分离三氧化钼中的钨,并能进一步清除其它杂质。
从钼氧化物中去除钨的新方法
【摘 要】
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日本一家公司研究出一种从三氧化钼中分离钨,制取高纯钼粉的新方法以满足钼测射靶对原料纯度越来越高的要求。在一般的纯钼粉中,含有100～200ppm的钨,这种钼原料中钨的去除非常
【出 处】
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中国钨业
【发表日期】
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1997年3期
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