硼烯/石墨烯异质结缺陷态电子结构的第一性原理研究

来源 :原子与分子物理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cw5188
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采用密度泛函理论系统研究了硼烯-石墨烯异质结中缺陷态对体系电子结构特性的影响.发现缺陷态存在于石墨烯一侧时会破坏异质结结构;但缺陷态存在于硼烯一侧时异质结结构仍然会稳定存在,并且体系电子结构随缺陷态密度改变而发生明显变化:从无缺陷态时的金属特性变为多缺陷态时的半导体特性.常温下的分子动力学模拟进一步验证了相关体系的动力学稳定性.
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NH3的催化分解一直是制备高纯度氢的有效途径之一,因此具有良好的催化活性的贵金属被广泛的应用于催化解离的研究中.然而,由于纯金属催化剂的利用效率低,增加催化成本.最近的研究发现单原子催化剂Ir1/MoS2以其突出的优势被认为是一种潜在的能替代现有贵金属催化剂的材料.本文采用密度泛函理论与周期性平板模型相结合的方法,研究了NH3在单原子催化剂Ir1/MoS2上的吸附与活化.结果表明:NH3的优势吸附位为Ir原子的顶位,构型为倾斜结构(atop),NH3与体系表面的金属Ir成键,吸附能达到1.63 eV,是化
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