外延CVD设备

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CVD设备 欲使器件具有高可靠性,则须实现器件的高性能与高密度化,若干年来,这项技术研究已达到了白热化的程度,而且这种白热状态今后仍将保持下去。特别是,由于微细加工技术的进步,半导体器件制造技术必将产生实质性的重大飞跃。如图1所示,对于器件的动向 CVD equipment To make the device highly reliable, it is necessary to achieve high performance and high density of the device. For some years, the technical research has reached a level of white-hotness, and the white hot state will continue in the future. In particular, due to advances in microfabrication technology, semiconductor device manufacturing technology is bound to make a substantial significant leap forward. As shown in Figure 1, for the device’s movement
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