【摘 要】
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本实验针对正三角形、正方形和正六边形三种不同形状的栅格,进行了理论光透过率分析,指出在实用的栅格参数下,正六边形栅格基元具有相对较高的光透过率,以及随栅格线宽增加光
【机 构】
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北京印刷学院北京市印刷电子工程技术研究中心
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本实验针对正三角形、正方形和正六边形三种不同形状的栅格,进行了理论光透过率分析,指出在实用的栅格参数下,正六边形栅格基元具有相对较高的光透过率,以及随栅格线宽增加光透过率减小的最少。柔印过程中不可避免地栅格线宽增加使透明导电膜的实际光透过率低于其理论值,但三种形状栅格膜间的光透过率相差不大,导电性却相差较大,品质因子差异明显。其中,正六边形的品质因子最高,为6.04,较次高的正方形栅格高了21%。
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