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采用直流反应磁控溅射法制备了TaN薄膜，研究了薄膜厚度对TaN薄膜微观结构及电性能的影响。结果表明，薄膜厚度对TaN薄膜的表面形貌和相结构都没有影响，但会显著影响TaN薄膜的电学性能。在87～424nm的范围内，随着薄膜厚度的增大，所制TaN薄膜的电阻率从555×10^-6Q·cm减小到285×10^-6Q·cm，方阻从84刚口减小到9Ω/□，电阻温度系数（TCR）从120×10^-6／℃增加到＋50×10^-6／℃。可以通过调节薄膜的厚度调节T