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本文研究了TiN薄膜在化学气相沉积、物理气相沉积(包括热灯丝离子镀和多弧离子镀)以及等离子增强化学气相沉积等不同生成条件下的内应力变化。并通过改变钢及硬质合金基体的化学成份和表面状态。考察了基体材料对薄膜应力的影响。在此基础上,对薄膜内应力的形成机制进行了分析讨论。更多还原
沉积方式与基体材料对TiN薄膜内应力的影响
【摘 要】
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本文研究了TiN薄膜在化学气相沉积、物理气相沉积(包括热灯丝离子镀和多弧离子镀)以及等离子增强化学气相沉积等不同生成条件下的内应力变化。并通过改变钢及硬质合金基体的
【机 构】
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西安交通大学材料系,西安交通大学材料系西安710049,西安710049,西安710049
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1993年2期
【基金项目】
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国家自然科学基金(代号59001450)
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