论文部分内容阅读
综述了近年来通过把分子识别位点建立在基质材料的表面，来提高识别位点与印迹分子的结合速度，进一步加强印迹材料吸附分离效率的分子印迹技术，即表面印迹技术的研究进展。主要从以硅为基质材料方面综述了表面分子印迹技术的发展现状，对最近几年基于硅表面修饰的分子印迹技术的制备与应用的最新进展进行了总结与评述，并对其将来的发展进行了展望。