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本工作利用微波吸收薄膜介电谱测量技术,测量了菁染料光谱增感后的AgBr晶体乳剂在脉冲激光曝光后产生的光电子衰减时间特性,分析了不同类型的染料及其增感条件对材料光电子时间特性的影响关系.通过比较增感后的T-颗粒乳剂和立方体乳剂的光电子衰减特性,实验验证了吸附在T-颗粒(111)晶面上的染料比吸附在立方体(100)晶面上的染料更有效、更有助于形成潜影的论据.