Gd掺杂对Ce0.67Tb0.33MgAl11O19发光性能的影响

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yueyingz4l

【摘要】

：

采用溶胶-凝胶法制备了掺杂Gd3+离子的Ce0.67Tb0.33MgAl11O19(CTMA),分别研究了Gd3+离子取代部分Ce3+离子和Gd3+离子取代部分Tb3+离子后对Ce0.67Tb0.33MgAl11O19在紫外线激发

【作者】

：

林福东唐子龙张中太

【机构】

：

清华大学

【出处】

：

稀有金属材料与工程

【发表日期】

：

2004年10期

【关键词】

：

GD CTMA 掺杂荧光 Gd CTMA doping fluorescence

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

采用溶胶-凝胶法制备了掺杂Gd3+离子的Ce0.67Tb0.33MgAl11O19(CTMA),分别研究了Gd3+离子取代部分Ce3+离子和Gd3+离子取代部分Tb3+离子后对Ce0.67Tb0.33MgAl11O19在紫外线激发下发射可见光的影响.由于Gd3+离子在Ce3+离子和激活剂Tb3+离子间起到良好的能量传递的作用,所以掺杂Gd3+离子后对Ce0.67Tb0.33MgAl11O19在紫外线激发下的主发射峰强度影响不大,在一定程度上还有加强作用.同时掺杂Gd3+离子使Ce0.67Tb0.33MgA

其他文献

水化学对Zr-4合金氧化膜／基体界面处压应力的影响

测量和比较Zr-4合金样品分别在400℃,10.3 MPa过热水蒸汽,0.01 mol/L和0.04 mol/L的LiOH水溶液中腐蚀后氧化膜/金属界面处氧化膜内的压应力,发现在0.04 mol/L LiOH水溶液中腐

期刊

水化学ZR-4合金压应力water chemistry zircaloy-4 compressive stress

均相沉淀法制备α—Ni（OH）2及其电化学性能研究

采用均相沉淀法制备了可以在强碱性溶液中稳定存在的Al代α-Ni(OH)2.X射线衍射和扫描电子显微镜测试表明,试样结晶度很高,形貌为细小颗粒的团聚.采用恒流充放电测试方法研究

期刊

均相沉淀法α—Ni(OH)2镍氢电池homogeneous precipitation method α-Ni(OH)2 Ni/MH batteri

溶胶-凝胶法制备SiO,2薄膜中Eu(TTA),3的原位化学合成动力学

将溶解有噻吩甲酰三氟丙酮(TTA)的乙醇溶液和三氯化铕水溶液分别加入正硅酸乙脂、γ-缩水甘油氧基三甲氧基丙烯酸甲酯、乙醇和去离子水的混合物中,经薄膜拉制、干燥和热处理,

期刊

二氧化硅薄膜稀土原位合成化学动力学

电磁成形高温合金大宽厚比板状件的实验研究

对大宽厚比(4:1)的高温合金(K3)板状件电磁成形包括工艺、感应器结构、屏蔽罩等进行了研究.结果表明:合理的感应器结构能使板状坯料均匀地沿横截面周界熔化并能约束一定高度

期刊

电磁成形高温合金大宽厚比板状件定向凝固electromagnetic shaping superalloy plate-form with big

Gd掺杂对Ce0.67Tb0.33MgAl11O19发光性能的影响

其他学术论文