TiN类膜制备工艺的研究进展及应用

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【摘要】

：

文章简要介绍了利用化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、双辉技术及其它表面处理技术制备TiN类膜的研究进展,讨论了各种制备方法的工艺特点。

【作者】

：

李莉平

【机构】

：

嘉兴职业技术学院机电与汽车分院

【出处】

：

产业与科技论坛

【发表日期】

：

2011年4期

【关键词】

：

表面技术 TiN类膜制备工艺

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