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采用直流反应磁控溅射法在玻璃片上制备了TiN薄膜，研究不同制备工艺条件与薄膜性能之间的关系。用紫外-可见光分光光度计测试了不同沉积时间和N2流量条件下TiN薄膜透光率；用x射线衍射仪分析了不同N2流量和溅射功率条件下TiN薄膜结构；用扫描电镜（SEM）观察了TiN薄膜的表面腐蚀形貌，用恒电位仪对TiN薄膜的耐腐蚀性进行了分析。结果表明：当沉积时间为2min，N2流量为15mL／min时，在可见光区有较高的透光率，在近红外区的透光率很低；当N2流量为15mL／min，溅射功率为4kW时，TiN薄膜的结晶最致