多层共烧氧化铍微波封装工艺水平

来源 :半导体情报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ksxy008
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
本文描述了用生瓷带制造多层共烧氧化铍元件的工艺过程,讨论了主要工艺过程:瓷带的冲制、丝网印刷,层压,切片及烧结,给出了与生产过程中各工艺步骤有关的图解。提出了一些设计原则,以指导更低成本的生产。工艺水平是根据生产的产品及其性能以及主要用户的设计指标来确定的。在确定封装设计之前,应特别重视电子封装设计者和共烧元件制造者之间的初步协商。本文旨在使读者了解制造多层共烧氧化铍元件的能力,从而避免工艺中易犯的错误。
其他文献
本文通过结合某公路省道项目,根据本段项目特点和总体设计原则,确定项目的总体设计思路和设计指导思想,将本项目修建成为一条安全适用、生态环保、技术先进的一级公路,可供同