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以三维金刚石结构光子晶体为例,采用立体光刻技术(SLA)进行三维光子晶体的制备研究.微波透射谱测试表明,所制备的光子晶体的禁带分布在12.3～13.4GHz之间,与理论计算值一致,表明立体光刻技术可用于复杂三维光子晶体结构的制备研究.
立体光刻技术制备三维光子晶体
【摘 要】
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以三维金刚石结构光子晶体为例,采用立体光刻技术(SLA)进行三维光子晶体的制备研究.微波透射谱测试表明,所制备的光子晶体的禁带分布在12.3～13.4GHz之间,与理论计算值一致,表
【机 构】
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北京科技大学材料科学与工程学院
【出 处】
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半导体学报
【发表日期】
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2007年z1期
【基金项目】
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国家重点基础研究发展规划(批准号:2004CB719802),北京市科技新星计划(批准号:2003812)和高等学校博士学科点专项科研基金(批准号:20050008002)资助项目
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