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通过台阶仪和扫描电镜、原子力显微镜测试观察了PVD方法制作Cr薄膜的溅射速率和表面形貌,实验分析了相关工艺参数对溅射速率的影响情况,并对薄膜的湿法刻蚀工艺进行了初步研究.同时给出了Cr膜与其腐蚀后的电阻图形的显微镜照片.
Cr薄膜的沉积与湿法刻蚀工艺研究
【摘 要】
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通过台阶仪和扫描电镜、原子力显微镜测试观察了PVD方法制作Cr薄膜的溅射速率和表面形貌,实验分析了相关工艺参数对溅射速率的影响情况,并对薄膜的湿法刻蚀工艺进行了初步研
【机 构】
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国防科技大学机电工程与自动化学院,国防科技大学航天与材料工程学院
【出 处】
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传感技术学报
【发表日期】
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2006年05期
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