钨硅化物溅射靶的研制

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用粉末冶金工艺制造钨硅化物溅射靶已为人们所熟知,本文提及的以自传播高温合成技术制取较好的基材—高纯钨硅的包复粉末是值得注意的一种工艺路线,它使产品具有较高的纯度密度及较低的电阻率。 It is well-known to fabricate tungsten silicide sputtering targets by the powder metallurgy process. It is noteworthy that the coated composite powders prepared by high-temperature self-propagating technology Route, which makes the product has a higher purity density and lower resistivity.
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