论文部分内容阅读
为了实现对Mo／Si多层膜的结构表征，测量了多层膜样品的小角X射线衍射谱。介绍了小角X射线衍射谱的分析方法，包括Bragg峰值拟合法，傅里叶变换法，反射谱拟合法。Bragg峰值拟合法和反射谱拟合法得到多层膜的周期厚度为7．09nm，两种模型的反射谱拟合法得到界面的粗糙度（扩散长度）为0．40—0．41nm（Si在Mo上），0．52～0．70nm（Mo在Si上），前者要比后者小，这与透射电镜法（TEM）得到的结果0．40nm（Si在Mo上），0．6～0．65nm（Mo在Si上）是一致的。通过基于扩散模型的反