铁屏蔽T(d,n)^4He源的模拟结果分析

来源 :原子能科学技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kathrynde
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用Monte Carlo法模拟了用铁屏蔽T(d,n)^4He快中子源时不同条件下的透射率随铁厚度的变化规律。研究了(n,2n)反应对快中子慢化的作用,使较低能量的中子产生了累积效应,并分析了反射中子二次进入屏蔽体时透射率的变化规律。推荐了多层屏蔽体的铁的适当厚度,与国外数据符合较好。
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