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全球半导体技术水平的扫描
全球半导体技术水平的扫描
来源 :集成电路应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qppkqppk
【摘 要】
:
按2004年12月的ITRS,国际半导体工艺路线图,其主要内容为2004年是90nm.2007年为65nm及2009年为45nm、这仅表示全球工业界开始进入该挡次技术的时间,决非己达到可以开始批量生产阶
【作 者】
:
莫大康
【出 处】
:
集成电路应用
【发表日期】
:
2005年11期
【关键词】
:
半导体技术
全球
扫描
半导体工艺
生产阶段
水
路线图
工业界
国际
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按2004年12月的ITRS,国际半导体工艺路线图,其主要内容为2004年是90nm.2007年为65nm及2009年为45nm、这仅表示全球工业界开始进入该挡次技术的时间,决非己达到可以开始批量生产阶段,现在国际上还没有确切的定义。如何才叫进入90nm时代,其主要标志是什么?
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