【摘 要】
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用扫描电镜（SEM）的电了通道讨度（ECC）技术研究了[001]取向铜单晶中的疲劳位错结构结果表明，SEMECC技术不仅可以真实地、全面地显示疲劳位错组态，而且还揭示了表面出现的宏观形变带
【机 构】
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中国科学院金属研究所材料疲劳与断裂国家重点实验室!沈阳,110015,中国科学院金属研究所材料疲劳与断裂国家重点实验室!沈阳,110015,中国科学院金属研究所材料疲劳与断裂国家重点实验室!沈阳,11
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用扫描电镜（SEM）的电了通道讨度（ECC）技术研究了[001]取向铜单晶中的疲劳位错结构结果表明，SEMECC技术不仅可以真实地、全面地显示疲劳位错组态，而且还揭示了表面出现的宏观形变带与位错结构的对应关系.
The results of the fatigue dislocation structure in [001] -oriented copper single crystal by electrical channeling (ECC) with scanning electron microscopy (SEM) show that the SEMECC technique can not only display the fatigue dislocation configuration in a real and comprehensive way, But also reveals the corresponding macroscopic deformation zone and dislocation structure appearing on the surface.
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