【摘 要】
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介绍了一种采用NaOH-NaClO混合腐蚀液制备多晶硅绒面的新方法。研究结果表明，当VNaOH∶VNaClO=1∶3，NaOH浓度为17%，腐蚀温度为80℃，腐蚀时间为20min时，能够得到均匀的沟壑状凹坑多晶硅绒面，腐蚀后硅片表面的反射率与未腐蚀的硅片表面的反射率相比，降低近30%。另外，与传统的HF∶HNO3酸腐蚀工艺相比，这种新型腐蚀工艺不仅可以获得反射率更低的多晶硅绒面结构，而且反应过程中产生的具有高度活性的氯离子可以作为很好的吸杂剂，降低一些有害的金属杂质的活性以提高太阳电池的开路电压，同时也省
【机 构】
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浙江师范大学材料物理系，浙江金华321004
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介绍了一种采用NaOH-NaClO混合腐蚀液制备多晶硅绒面的新方法。研究结果表明，当VNaOH∶VNaClO=1∶3，NaOH浓度为17%，腐蚀温度为80℃，腐蚀时间为20min时，能够得到均匀的沟壑状凹坑多晶硅绒面，腐蚀后硅片表面的反射率与未腐蚀的硅片表面的反射率相比，降低近30%。另外，与传统的HF∶HNO3酸腐蚀工艺相比，这种新型腐蚀工艺不仅可以获得反射率更低的多晶硅绒面结构，而且反应过程中产生的具有高度活性的氯离子可以作为很好的吸杂剂，降低一些有害的金属杂质的活性以提高太阳电池的开路电压，同时也省去了在产业化生产过程中的盐酸处理，从而改善了生产环境。
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帧转移面阵CCD相机对高亮目标成像时产生的帧转移模糊效应是影响偏振测量精度的关键因素,开展帧转移模糊效应的测量和校正方法研究对提高星载偏振相机高精度定量化应用水平具有重要意义。以GF-5卫星多角度偏振成像仪(DPC)为例,介绍了帧转移模糊效应的产生机理及特点,提出了将帧转移模糊效应分为与光照条件无关的响应差异型帧转移模糊效应和与光照条件有关的拖影型帧转移模糊效应。结合DPC在轨成像时帧转移模糊效应
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