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本文研究了新型钡钨阴极发射性能,并且分别用扫描电子显微镜(SEM)和工业CT微焦点系统来分析所研制的新型钡钨阴极的表面形貌和内部微细结构.该阴极不仅简化了传统浸渍钡钨阴极生产工艺,而且发射性能优于传统工艺阴极.
新型钡钨阴极的发射性能研究
【摘 要】
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本文研究了新型钡钨阴极发射性能,并且分别用扫描电子显微镜(SEM)和工业CT微焦点系统来分析所研制的新型钡钨阴极的表面形貌和内部微细结构.该阴极不仅简化了传统浸渍钡钨阴
【机 构】
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中国科学院电子学研究所,中国科学院电子学研究所
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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2003年5期
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