【摘 要】
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设计了过渡层和梯度膜结构，采用PVD磁控溅射工艺和PVD磁控溅射PECVD（脉冲等离子增强化学气相沉积）复合工艺在高速工具钢W6Mo5Cr4V2表面制备不的类金刚石（Diamond-likeCarbon，DLC）膜
【机 构】
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同济大学材料科学与工程学院上海市金属功能材料开发应用重点实验室,上海日立电器有限公司
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设计了过渡层和梯度膜结构，采用PVD磁控溅射工艺和PVD磁控溅射PECVD（脉冲等离子增强化学气相沉积）复合工艺在高速工具钢W6Mo5Cr4V2表面制备不的类金刚石（Diamond-likeCarbon，DLC）膜：Ti过渡层＋DLC膜以及CrN＋CrNC＋CrC＋D（掺杂Cr）硬质膜。对这两种膜层的成分、结构、形貌和力学性能的对比分析发现，前者面粗糙度小，但是后者的综合力学性能更好。
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