基于CSMC 0.5微米混合信号工艺的ESD保护电路实现

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ESD保护电路已经成为CMOS集成电路不可或缺的组成部分,MOS器件的栅氧化层面积小、厚度薄,因此在测试、封装和应用过程中,来自人体或设备的静电电荷可产生的高达几千伏以上的电压,足以使栅氧化层击穿,造成器件失效。根据选用的CSMC 0.5μm FEOL 0.35μm BEOL_Mixed_Signal工艺推荐的ESD保护结构,完成输入级、输出级及电源地的ESD电路设计,同时根据版图设计规则,完成了芯片端口ESD设计。
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