SiO2单层膜的反常色散研究

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【摘要】

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利用等效折射率概念分析了SiO2单层膜反常色散出现的原因,并在1.1m镀膜机上证明了理论分析的合理性.结果表明,理论分析与实验结果一致,沿薄膜厚度方向折射率的对称周期变化使

【作者】

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李香波高劲松王彤彤王笑夷陈红郑宣明申

【机构】

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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所; 中国科学院研究生院;

【出处】

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光子学报

【发表日期】

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2004年期

【关键词】

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光学薄膜反常色散等效折射率变折射率

【基金项目】

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国家自然科学基金(60478035)资助

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利用等效折射率概念分析了SiO2单层膜反常色散出现的原因,并在1.1m镀膜机上证明了理论分析的合理性.结果表明,理论分析与实验结果一致,沿薄膜厚度方向折射率的对称周期变化使薄膜的等效折射率变化在可见光波段与致密膜层的变化不一致,表现出反常色散的现象.膜厚方向折射率变化周期越大,等效折射率随波长增加的趋势就越大,薄膜表现出的反常色散特性越明显.沿膜厚方向折射率变化幅度的对色散特性影响次之.

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