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本文用PECVD法在石英玻璃上沉积非晶硅薄膜，然后用快速光退火和传统电阻炉退火方法晶化生长多晶硅薄膜，用拉曼光谱仪、XRD和场发射扫描电镜观察分析薄膜，发现在制备的多晶硅薄膜表面存在结晶团现象，并对这一现象的晶化机理进行了分析。
多晶硅薄膜结晶团晶化机理的研究
【摘 要】
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本文用PECVD法在石英玻璃上沉积非晶硅薄膜，然后用快速光退火和传统电阻炉退火方法晶化生长多晶硅薄膜，用拉曼光谱仪、XRD和场发射扫描电镜观察分析薄膜，发现在制备的多晶硅薄膜
【机 构】
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南阳理工学院太阳能电池研究所,安彩高科股份有限公司博士后工作站,郑州大学物理工程学院
【出 处】
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人工晶体学报
【发表日期】
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2013年2期
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