一类考虑光学邻近效应的片内互连寄生电容提取方法

来源 :浙江工业大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhouqiangjian

【摘要】

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大规模集成电路（ULSI）的高速发展使光刻中曝光线条的特征尺寸日益接近曝光系统的理论分辨极限，光学邻近效应可导致实际光刻版图的较大畸变．文中基于BEM和神经网络技术，通过定义等

【作者】

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何剑春王晓东章旌红贾立新王涌

【机构】

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浙江工业大学信息工程学院

【出处】

：

浙江工业大学学报

【发表日期】

：

2006年5期

【关键词】

：

NNCE 光学邻近效应寄生参数边界元方法 NNCE optical proximity effect parasitic parameter boundar

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大规模集成电路（ULSI）的高速发展使光刻中曝光线条的特征尺寸日益接近曝光系统的理论分辨极限，光学邻近效应可导致实际光刻版图的较大畸变．文中基于BEM和神经网络技术，通过定义等效长度概念，建立了一个计算寄生参数的小型专家系统NNCE，以实现对光刻后实际版图的寄生电容参数的有效提取．一些简单环境中的矩形互连实例被用来比较光刻前后寄生参数的变化，数值模拟表明该方法具有良好的精度．

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