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通过紫外激发在氢终止的单晶硅表面制得了十八烯的反应膜,并采用接触角测定仪、红外光谱仪、椭圆偏光仪及原子力显微镜等表征了薄膜的结构和摩擦学特性.结果表明,在紫外光照射下,十八烯在硅表面通过键合生成有序反应膜,从而降低硅表面的粘着能和减小摩擦.
十八烯反应膜的制备及其微观摩擦学性能研究
【摘 要】
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通过紫外激发在氢终止的单晶硅表面制得了十八烯的反应膜,并采用接触角测定仪、红外光谱仪、椭圆偏光仪及原子力显微镜等表征了薄膜的结构和摩擦学特性.结果表明,在紫外光照
【机 构】
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中国科学院兰州化学物理研究所,哈尔滨纺织科学研究所
【出 处】
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摩擦学学报
【发表日期】
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2002年5期
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